1) 現在反應濺射法已被廣泛應用于切削刀具、成型工具、注射模具和諸如沖頭和沖模之類的通用器具，以增強其耐磨性和使用壽命。

2) 研究了用銦錫合金靶直流磁控反應濺射制備ITO透明號電膜。

3) 三極反應濺射具有設備簡單，工藝簡便，鍍層致密等特點。

4) 用射頻反應濺射法制備出BCN薄膜。

5) 脈沖濺射是一種新型的、用于消除直流反應濺射中異常放電的技術。

6) 對于反應濺射，可通過連續(xù)改變反應氣體流量制得化學成分比連續(xù)變化的梯度薄膜。

7) 通過磁控反應濺射，在玻璃基底上制備了不同濺射溫度下的氧化鈦薄膜。

8) 反應濺射中氧分壓對薄膜的影響也很大，較高的氧氣分壓有助于較好結晶的二氧化鈦薄膜的生成。

9) 用磁控反應濺射法在不同氧分壓下制備了氮氧化鉿薄膜。